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半導體潔凈室氣體分析監測系統通過污染物源頭控制、傳播控制，實時監控污染物濃度并結合多級過濾器以及新風系統來實現，持久監測AMC濃度，有助于掌握污染物源頭、穩定生產、預防過濾器突發性壽命減少等。

EDK 6900P系列TDL激光微量便攜氣體分析儀高靈敏度和寬的動態量程，是可調諧半導體激光器光譜（TDLS）技術的基本特性，可用于測量sub-ppm到%范圍的氣體。

TDL激光微量在線氣體分析儀基于非色散紫外吸收光譜NDUV技術來對氫氣中Cl2進行分析。NDUV非色散紫外吸收光譜技術是確定復雜氣體混合物中濃度的一種普遍方法。

空氣分子污染物監測系統快速監測、報警、極低濃度測量、寬測量區域、多氣體的高靈敏響應等是半導體工業要求之一。深紫外光刻工藝特別關注氨、胺類、N-甲基毗咯烷酮NMP、酸類等濃度測量，當這些氣體與化學放大光刻膠反生反應 時，將深深的影響半導體器件質量。

潔凈室環境中的空氣分子污染物AMC，內部來自建筑材料釋出、設備和材料釋出、腐蝕和光刻等工藝過程中化學藥品逸散、人員產生、管路泄露、設備維護修理時散發等，外部來自環境空氣中存在的氣相污染物，以及潔凈室的廢氣排放重新送回潔凈室。