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半導(dǎo)體潔凈室氣體分析監(jiān)測(cè)系統(tǒng)通過污染物源頭控制、傳播控制，實(shí)時(shí)監(jiān)控污染物濃度并結(jié)合多級(jí)過濾器以及新風(fēng)系統(tǒng)來實(shí)現(xiàn)，持久監(jiān)測(cè)AMC濃度，有助于掌握污染物源頭、穩(wěn)定生產(chǎn)、預(yù)防過濾器突發(fā)性壽命減少等。

EDK 6900P系列TDL激光微量便攜氣體分析儀高靈敏度和寬的動(dòng)態(tài)量程，是可調(diào)諧半導(dǎo)體激光器光譜（TDLS）技術(shù)的基本特性，可用于測(cè)量sub-ppm到%范圍的氣體。

TDL激光微量在線氣體分析儀基于非色散紫外吸收光譜NDUV技術(shù)來對(duì)氫氣中Cl2進(jìn)行分析。NDUV非色散紫外吸收光譜技術(shù)是確定復(fù)雜氣體混合物中濃度的一種普遍方法。

空氣分子污染物監(jiān)測(cè)系統(tǒng)快速監(jiān)測(cè)、報(bào)警、極低濃度測(cè)量、寬測(cè)量區(qū)域、多氣體的高靈敏響應(yīng)等是半導(dǎo)體工業(yè)要求之一。深紫外光刻工藝特別關(guān)注氨、胺類、N-甲基毗咯烷酮NMP、酸類等濃度測(cè)量，當(dāng)這些氣體與化學(xué)放大光刻膠反生反應(yīng) 時(shí)，將深深的影響半導(dǎo)體器件質(zhì)量。

潔凈室環(huán)境中的空氣分子污染物AMC，內(nèi)部來自建筑材料釋出、設(shè)備和材料釋出、腐蝕和光刻等工藝過程中化學(xué)藥品逸散、人員產(chǎn)生、管路泄露、設(shè)備維護(hù)修理時(shí)散發(fā)等，外部來自環(huán)境空氣中存在的氣相污染物，以及潔凈室的廢氣排放重新送回潔凈室。